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Grabador por Plasma / Calcinador, Plasma Prep™ Jr. de SPI

¡Alto poder por menos dinero!



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El Plasma Prep Jr. de SPI, se ofrece en dos configuraciones:







Tecnología de Microondas para un grabado por plasma económico

El Plasma Prep Jr. de SPI ofrece una alternativa tecnológica y económica a comparación de otros equipos de plasma. A través de la energía de microondas, el Plasma Prep Jr. puede remover orgánicos y algunos inorgánicos (y sus óxidos) de varias superficies, incluyendo metales, semiconductores y cerámicos.

El proceso de grabado requiere de un sangrado del sistema con un gas con las propiedades químicas adecuadas para grabar la superficie de la muestra tratada. Por ejemplo, si han de removerse orgánicos, se utiliza oxígeno. O si se va a remover una capa de pasivación de un material electrónico, se emplea tetrafluoruro de carbono u otro gas fluorinado.

A comparación con el grabado por plasma RF, el Plasma Prep Jr. de SPI opera a presiones de gas más altas, resultando en una velocidad de grabado más rápida. Eso significa tratar un mayor número de muestras, pero también menor discriminación cuando se busca contraste mediante grabados diferenciales. La unidad enfriada por agua permite mantener de forma económica el calentamiento de la muestra de temperatura ambiente a 150° C.

NOTA: Las muestras en el Plasma Prep Jr. desarrollan altas temperaturas, tanto que normalmente no es recomendable para polímeros. Pero no pierda de vista que la ventaja más grande es que más poder puede generarse por menos dinero. Entonces, para un usuario con un presupuesto limitado y que requiere una cámara relativamente amplia (por ejemplo, una mayor que la del Plasma Prep II ) puede considerarse una buena opción, aunque debe tenerse cuidado para combatir problemas por sobrecalentamiento. En el Plasma Prep Jr. de SPI las capas de cristal que se depositan por pasivación pueden removerse cuando se lleva a cabo un análisis de fallas. Sin embargo, en algunos casos, independientemente de los mejores esfuerzos, los materiales pueden no resistir temperaturas elevadas. Aún con esto, es posible ajustar la potencia y utilizar el sistema a niveles menores en el calentamiento de la muestra, minimizando el problema.

Accessorios:


UnitSPI #Ea.
Reactor de cámara Plasma Prep Jr.11001-AB $6969.60 Agregue al carrito
Plasma Prep Jr., enfriado con agua (Pequeño) 11002-AB  7035.00 Agregue al carrito
Plasma Prep Jr., enfriado con agua (Grande)11003-AB  8295.00 Agruegue al carrito


Accessorios
Recirculador de Agua 11001WC-AB   450.00 Agregue al carrito
Trampa de Iones11001IT-AB   165.38 Agregue al carrito
Controladores para gas11001G-AB 2000.00 Agregue al carrito
Plataforma para Proceso11001P-AB   157.50 Agregue al carrito
Tenazas especiales11001T-AB     183.75 Agregue al carrito



Bomba Recomendada:
Leybold D2.5E, 2.1 Pies cúbicos/ Minuto (at 60 Hz)
Bomba de Vacío "Fomblinizada"10405-AB $4325.00 Agregue al carrito



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Friday July 03, 2009
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